
快科技9月15日消息,阿斯麦管理层透露 ,正研究于2028年生产逾110部极紫外光(EUV)光刻机,以应对AI带动的需求 。

阿斯麦早前表示,2027年EUV光刻机产能几近售罄 ,当年可生产至少80部,并计划在2028年将产量提高约30%。

近来 需求仍然非常强劲,大部分新订单已是2028年交付。阿斯麦扩大EUV产量的主要限制并非供应链,而是EUV光刻机的组装速度 。
摩根大通分析师预计 ,英特尔在2027年将再次成为阿斯麦的重要客户;马斯克正在筹建的Terafab则被列为正在发展中的新客户。
阿斯麦下一代高数值孔径EUV光刻机的客户包括英特尔、三星电子和SK海力士等。
其中,英特尔已在其18A工艺上提前使用该尖端设备。此前英特尔晶圆代工部门宣布,采用高数值孔径极紫外光刻(High-NA EUV)技术处理的晶圆累计量已突破100万片 。
三星和SK海力士计划在2028年启用新设备;台积电态度相对保守 ,计划在2030年投入使用高数值孔径EUV光刻机。
(文章来源:快科技)








